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氧化硅片

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商品说明

尺寸:1-12英寸;定制尺寸;

晶向:<100>、<111>、<110>、<211>等和偏角度;

氧化层厚度:几纳米至几十微米;表面:单面、双面氧化;

类型:N型/掺磷;P型/掺硼;区熔FZ本征高阻;

电阻率:按客户要求定制;

氧化工艺:干氧、湿氧、干湿结合、高压氧化、PECVD;

出货速度:长期备有大量现货,当天出库;订制能力:各种参数均可订制;

经营:国内高质硅片,可提供日本、美国等大厂硅片;

用途:刻蚀率测定、金属打线测试、电性绝缘层


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